紅外顯微鏡的應用
2024-12-04(94)次瀏覽
近紅外成像使您能夠對肉眼無法看到的電子元件進行顯微鏡檢測。以下是近紅外成像在工業(yè)檢測中的一些強有力的方式：
1.檢查晶圓水平芯片級封裝（CSP）中的芯片損壞。
晶圓水平芯片級封裝是晶圓水平的集成電路封裝。使用顯微鏡的近紅外成像可用于對熱濕測試中出現的芯片損壞進行無損檢測。杭州紅外顯微鏡能夠透過硅成像，因此您可以觀察到熔煉泄漏、銅線腐蝕、樹脂工件剝落以及其他問題。
2.進行倒裝芯片無損分析。
顧名思義，倒裝芯片是一種將芯片有效面積翻轉，直接安裝在基板、電路板或載體上的芯片封裝方法。一旦倒裝芯片被附著在工件上，就無法用可見光對芯片圖案進行檢測。相比之下，杭州紅外顯微鏡使您能夠透過硅對內部缺陷進行檢查，不會對已安裝的芯片造成破壞。這也是確定應進行聚焦離子束（FIB）處理區(qū)域的有效方法。
3.判斷晶圓研磨量。
晶圓研磨是一個半導體設備生產步驟，目的是降低晶圓厚度。需通過研磨使設備變薄，因此對晶圓兩面進行測量的需求也相應增加。然而，要測量疊層晶圓兩面的研磨量非常困難。杭州紅外顯微鏡系統(tǒng)可以透過材料進行成像，在晶圓的正面和背面聚焦，使您能夠獲得大致距離。然后，您可以通過測量物鏡的Z軸移動狀態(tài)來判斷研磨的程度。
4.判斷3D安裝配置中的芯片縫隙。
紅外顯微鏡還可以協(xié)助進行硅縫隙管理。三維（3D）安裝配置中的芯片縫隙可以通過測量紅外光透過硅聚焦在芯片和中介層上時物鏡的移動狀態(tài)來進行無損判斷。這種方法也可用于微電子機械系統(tǒng)設備的測量和空心構造。
5.對一系列高難度樣品進行成像。
可使用較大的波長的短波紅外（SWIR）成像（如1300-1500納米范圍）對難度更高的樣品進行成像，例如微電子機械系統(tǒng)設備、重摻雜硅樣品、表面粗糙的樣品、晶圓粘結和3D芯片堆棧。這種方法可以使用更敏感的成像系統(tǒng)，如砷化銦鎵（InGaAs）攝像頭。在反射光或透射光顯微鏡下，專用紅外物鏡、高功率照明和InGaAs攝像頭所帶來的信號優(yōu)勢，讓人們可以對難度更高的樣品進行成像。
最新資訊
-
紅外顯微鏡的應用
近紅外成像使您能夠對肉眼無法看到的電子元件進行顯微鏡檢測。以下是近紅外成像在工業(yè)...
-
紅外顯微鏡
布魯克儀器公司 1982 年生產出世界上臺紅外顯微鏡以來，傅里葉變換顯微紅外光譜...
-
半導體芯片檢測的“透視眼”
近紅外一般定義為700-1600nm波長范圍內的光線，由于硅傳感器的上限約為11...
-
CX43MP偏光顯微鏡
產品介紹 CX43系列偏光顯微鏡是利用光的偏振特性對具有雙折射性物質進...
-
生物顯微鏡
生物顯微鏡由目鏡、物鏡、觀察筒、安裝臂、機身、載物臺、物鏡轉盤、聚光鏡、測微尺、...
173-1582-5640
公司地址：蘇州市工業(yè)園區(qū)勝浦路258號26棟廠房
關注公眾號